特許

J-GLOBAL ID：200903078127871544

低アミン含有率のジスアゾ顔料の製造方法およびそれにより得られるジスアゾ顔料

発明者： 城丸 修 ,  巣鴨 等
出願人/特許権者： 東洋インキ製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-256492
公開番号（公開出願番号）：特開平7-173408
出願日： 1994年10月21日
公開日（公表日）： 1995年07月11日
要約：

【要約】【目的】 残留カップラーおよびその分解物、特に芳香族アミン類の含有率の低いジスアゾ顔料を提供する。【構成】ベンジジン類のテトラゾ溶液と、該ベンジジン類に対して化学理論的に過剰のアセトアセトアニリド類を含むカップラー液とをカップリングさせて得られたジスアゾ顔料スラリーに、ハロゲンを添加することによって過剰のアセトアセトアニリド類を処理することを特徴とする低アミン含有率のジスアゾ顔料の製造方法。

請求項（抜粋）：

ベンジジン類のテトラゾ溶液と、該ベンジジン類に対して化学量論的に過剰のアセトアセトアニリド類を含むカップラー液とをカップリングさせて得られたジスアゾ顔料スラリーに、ハロゲンを添加することによって過剰のアセトアセトアニリド類を処理することを特徴とする低アミン含有率のジスアゾ顔料の製造方法。

IPC (2件)：

C09B 67/20 ,  C09B 41/00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 低アミン含有率のジスアゾ顔料の製造方法およびそれにより得られるジスアゾ顔料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-271374   出願人：東洋インキ製造株式会社
• 特開平4-224870
  
• 特開昭49-116130
  
• ジスアゾ顔料の製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-191003   出願人：東洋インキ製造株式会社