特許
J-GLOBAL ID:200903078157621992

プラズマディスプレイパネル用厚膜パターンの形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小西 淳美
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-184588
公開番号(公開出願番号):特開平11-016491
出願日: 1997年06月26日
公開日(公表日): 1999年01月22日
要約:
【要約】【課題】 プラズマディスプレイパネルの製造において、障壁層、電極、誘電体層の欠陥を少なく、かつ平坦に形成できる厚膜パターン形成方法を提供する。【解決手段】 基板上に、少なくともガラスフリットを有する無機成分とバインダー樹脂を含有する厚膜パターン形成材料を、全面もしくはパターン状に、塗布もしくは印刷した後、平坦化処理を施すことにより欠陥が少なく平坦な厚膜パターンを形成することができる。平坦化処理はプレスロールまたは定盤を使用して剥離性フィルムを介してまたは介さずに障壁層、電極、誘電体層をプレスすることにより行うことができる。
請求項(抜粋):
基板上に、少なくともガラスフリットを有する無機成分とバインダー樹脂を含有する厚膜パターン形成材料を、全面もしくはパターン状に、塗布もしくは印刷した後、平坦化処理を施すことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用厚膜パターンの形成方法。
IPC (2件):
H01J 9/02 ,  G03F 7/004 501
FI (2件):
H01J 9/02 F ,  G03F 7/004 501
引用特許:
審査官引用 (4件)
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