特許
J-GLOBAL ID：200903078166491350

金属板上に光触媒性の高い二酸化チタン膜を作製する方法

発明者：
住田 泰史

住田 泰史 について

, 
山本 春也

山本 春也 について


出願人/特許権者：
日本原子力研究所

日本原子力研究所 について


代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-108606
公開番号（公開出願番号）：特開2002-302760
出願日： 2001年04月06日
公開日（公表日）： 2002年10月18日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、金属基板上に数十nm程度の非常に薄い厚さで平滑な二酸化チタン膜を作製することを課題とする。本発明は、また、光触媒性の高い二酸化チタン膜が形成される基板材質を見出すことを課題とする。【解決手段】 レーザーアブレーション成膜法を用いることにより、金属基板上に二酸化チタン膜を作製することを解決手段とする。詳しくは、低圧酸素雰囲気下で二酸化チタンにレーザーを照射することにより金属基板上に光触媒性の高い二酸化チタン膜を作製することを解決手段とする。また、種々の金属基板上に二酸化チタン膜を作製し、光触媒性を評価することにより、高い光触媒性をもった二酸化チタン膜が形成される基板材質を見出す。
請求項（抜粋）：
低圧酸素雰囲気下で二酸化チタンにレーザーを照射することにより金属板上に二酸化チタン膜を作製する方法。
IPC (6件)：
C23C 14/28 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  B23K 26/00 ,  C01G 23/07 ,  B23K103:14
FI (6件)：
C23C 14/28 ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  B23K 26/00 G ,  C01G 23/07 ,  B23K103:14
Fターム (24件)：
4E068AH03 ,  4E068DB01 ,  4E068DB15 ,  4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA17 ,  4G069BA48A ,  4G069BA48C ,  4G069DA06 ,  4G069EA08 ,  4G069FA04 ,  4G069FB02 ,  4K029AA02 ,  4K029BA48 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB05 ,  4K029DB20
引用特許：
審査官引用 (2件)
引用文献：
審査官引用 (3件)

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