水分発生用反応炉

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：杉本丈夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-247874
公開番号（公開出願番号）：特開2000-072405
出願日： 1998年09月02日
公開日（公表日）： 2000年03月07日
要約：

【要約】【課題】炉温度が400°C以下で水分発生量が1000sccm以上の条件下においても、99%を超える水分発生反応率を安定して得ることができる水分発生用反応炉を提供する。【解決手段】反応炉本体1内はガス透過性の拡散フィルタ2により上下2室14,15に仕切られている。水素と酸素との混合ガスである原料ガスは、反応炉本体1の頂壁12に形成した原料ガス供給口43から上位の第1室14に供給され、第1反射板3及び拡散フィルタ2により拡散されつつ、下位の第2室15へと導入される。第2室15に導入された水素と酸素とは、反応炉本体1の周壁11及び底壁13に形成した白金触媒膜5との接触によりラジカル化されて反応し、その水分は底壁13の水分ガス取出口7から取り出される。かかる水素と酸素との反応は、主として、外周縁部が反応炉本体1の周壁11の内面に近接する大きさの第2反射板6と底壁13との間の狭い空間15aで生じる。

請求項（抜粋）：

筒状の周壁とその両端部を閉塞する第1及び第2端部壁とからなる中空密閉構造の反応炉本体と、反応炉本体内を第1端部壁側の第1室と第2端部壁側の第2室とに区画するガス透過性の拡散フィルタと、反応炉本体を所定温度に加熱保持する温度制御機構と、第1端部壁に対向して第1室に配置されており、第1端部壁との間に拡散フィルタ側に開口する原料ガス供給空間を形成する第1反射板と、原料ガス供給空間に水素と酸素との混合ガスである原料ガスを供給する原料ガス供給機構と、第2端部壁に近接対向して第2室に配置されており、第2端部壁との間に拡散フィルタ側に開口する水分発生空間を形成する第2反射板と、第2端部壁に形成されて水分発生空間に開口する水分ガス取出口と、第2室における反応炉本体の内面部分であって少なくとも第2反射板に対向する部分に全面的に被覆形成された白金触媒膜と、を具備する水分発生用反応炉であって、第2反射板をその外周縁部が反応炉本体の周壁の内面に近接する大きさのものとして、水素と酸素との反応が主として水分発生空間において行なわれるように構成したことを特徴とする水分発生用反応炉。

IPC (4件)：

C01B 5/00 , B01J 23/42 , H01L 21/31 , H01L 21/316

FI (4件)：

C01B 5/00 A , B01J 23/42 M , H01L 21/31 E , H01L 21/316 S

Fターム (19件)：

4G069AA03 , 4G069BC75A , 4G069BC75B , 4G069CB81 , 5F045AA20 , 5F045AC11 , 5F045EB02 , 5F045EE05 , 5F045EE10 , 5F045EE20 , 5F045EF14 , 5F045EJ04 , 5F058BA20 , 5F058BC02 , 5F058BF53 , 5F058BF63 , 5F058BG01 , 5F058BG02 , 5F058BJ01

引用特許：

出願人引用 (1件)

水分発生用反応炉
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-109989 出願人：大見忠弘, 株式会社フジキン, 株式会社日立製作所

審査官引用 (1件)

水分発生用反応炉
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-109989 出願人：大見忠弘, 株式会社フジキン, 株式会社日立製作所

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