特許
J-GLOBAL ID：200903078200427445
投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-136169
公開番号（公開出願番号）：特開平11-317348
出願日： 1998年04月30日
公開日（公表日）： 1999年11月16日
要約：
【要約】【課題】 レチクル面上のパターンを種々な照明モードで照明しても常に高い解像力が得られる露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 パターンが形成されたレチクルを照明する照明光学系と、該パターンを基板上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、被照射面上において光軸に関して対称に照度分布を変化させる第1の手段と、光軸に関して非対称に照度分布を変化させる第2の手段とを有し、該被照射面上の照度分布を光軸に関して対象な成分と光軸に関して非対称な成分とに分離し、前記第1及び第2の手段により各々の照度分布の成分を独立して変化させ、照度ムラを補正すること。
請求項（抜粋）：
パターンが形成されたレチクルを照明する照明光学系と、該パターンを基板上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、被照射面上において光軸に関して対称に照度分布を変化させる第1の手段と、光軸に関して非対称に照度分布を変化させる第2の手段とを有し、該被照射面上の照度分布を光軸に関して対称な成分と光軸に関して非対称な成分とに分離し、前記第1及び第2の手段により各々の照度分布の成分を独立して変化させ、照度ムラを補正することを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 7/22
H01L 21/30 527
, G03F 7/20 521
, G03F 7/22 H
, H01L 21/30 515 D
