特許

J-GLOBAL ID：200903078242152888

液浸露光用感放射線性樹脂組成物およびレジストパターン形成方法

発明者： 永井 智樹
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (1件)： 和気 操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-268458
公開番号（公開出願番号）：特開2008-089766
出願日： 2006年09月29日
公開日（公表日）： 2008年04月17日
要約：

【課題】波長193nmにおける屈折率が空気よりも高い液浸露光用液体を介して放射線照射する、液浸露光時に接触した水などの液浸露光用液体への溶出物の量が少ない。【解決手段】レンズとフォトレジスト膜との間に液浸露光用液体を介して放射線照射する液浸露光を含むレジストパターン形成方法に用いられ、樹脂(A)および下記式(1)で表される感放射線性酸発生剤(B)を0.5〜3質量部含む。 R1〜R3は、それぞれ独立にアリール基またはアルキル基を、Xは炭素数2〜6のフッ素化アルキレン基を表す。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

レンズとフォトレジスト膜との間に液浸露光用液体を介して放射線照射する液浸露光を含むレジストパターン形成方法に用いられ、酸解離性基含有樹脂(A)および感放射線性酸発生剤(B)を含み、前記フォトレジスト膜を形成する液浸露光用感放射線性樹脂組成物であって、 前記感放射線性酸発生剤(B)が下記式(1)で表される感放射線性酸発生剤を含み、前記酸解離性基含有樹脂(A)100質量部に対して前記感放射線性酸発生剤(B)を0.5〜3質量部含むことを特徴とする液浸露光用感放射線性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/28

FI (4件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/28

Fターム (25件)：

2H025AA00 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL26P ,  4J100BA04P ,  4J100BA15P ,  4J100BB18P ,  4J100BC03R ,  4J100BC08P ,  4J100BC09Q ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA19 ,  4J100GA19 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 国際公開WO2004/068242号公報
  
• 液浸露光プロセス用レジスト組成物、該レジスト材料を用いたレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-416700   出願人：東京応化工業株式会社