特許
J-GLOBAL ID：200903078246885499
キャパシタ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-057226
公開番号（公開出願番号）：特開平6-275776
出願日： 1993年03月17日
公開日（公表日）： 1994年09月30日
要約：
【要約】【目的】 キャパシタ用絶縁膜としてTa2 O5 膜19を用いているキャパシタであって、キャパシタ完成後に熱処理が行われた場合のこのキャパシタでのリーク電流特性の悪化を従来より少なくできるキャパシタを提供する。【構成】 シリコン基板11上にシリコン酸化膜13を具え、このシリコン酸化膜13上に下側電極としてリンドープのポリシリコンで構成された電極15aを具え、この下側電極15a上にこの下側電極15a側からシリコン酸化膜21及び酸化タンタル(Ta2 O5 )膜19をこの順に積層した積層体33をキャパシタ用絶縁膜として具え、この酸化タンタル膜19上に上側電極として窒化タングステン(WN)で構成した電極35を具えている。
請求項（抜粋）：
複数の絶縁膜で構成された積層体であってその少なくとも一方の最外層が酸化タンタル膜とされている積層体を2つの電極で挟んだ構造のキャパシタにおいて、2つの電極のうちの少なくとも酸化タンタル膜に接している側の電極を窒化タングステンで構成したことを特徴とするキャパシタ。
引用特許：
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