特許
J-GLOBAL ID:200903078349131573
情報記録担体及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-313740
公開番号(公開出願番号):特開2000-149329
出願日: 1998年11月04日
公開日(公表日): 2000年05月30日
要約:
【要約】【課題】磁気と光の技術を融合した超高密度メモリー用情報記録担体を製造する製造設備を新規に開発・投資する必要がある。また、両面同時スパッタでの製法では表裏に磁気特性のバラツキが大きくなり実用に耐えない。【解決手段】新規な情報記録担体の構造を考案し、従来の光ディスク製造設備インフラストラクチャーを利用して超高密度メモリー用情報記録担体を製造できた。案内溝(グルーブ)やプリピットなどの凹凸パターン基板101の凹凸パターン側に情報層103を片面成膜する。この情報層103上に保護機能と潤滑機能を有した保護層105を塗布又はスパッタ法などで形成する。次に基板側に紫外線硬化樹脂などハードコート層109を塗布、露光硬化させる。こうしてできた物理的に略類似した二つの情報基体を情報層103を外側、言い換えるとハードコート層109を各々内側にしてホットメルト樹脂や熱硬化型のエポキシ系樹脂等接着層107で貼りあわせることにより超高密度メモリー用情報記録担体が完成する。
請求項(抜粋):
トラック状に配置され、かつ光学的又は磁気的又はその両方を用いて、読み書き可能な情報構体用の情報層を両面外側に配置する情報記録担体にあって、物理的に略類似した二つの基板上に各々少なくとも片面に情報層を設けた情報基体を前記情報層を外側、言い換えると前記基板側を内側にして直接乃至は間接的に貼りあわせたことを特徴とする情報記録担体
IPC (5件):
G11B 7/24 541
, G11B 5/82
, G11B 7/26 531
, G11B 11/10 531
, G11B 11/10 541
FI (5件):
G11B 7/24 541 C
, G11B 5/82
, G11B 7/26 531
, G11B 11/10 531 A
, G11B 11/10 541 A
Fターム (17件):
5D006DA09
, 5D006EA03
, 5D029RA02
, 5D029RA30
, 5D029RA32
, 5D075EE03
, 5D075FG05
, 5D075FG18
, 5D075FH03
, 5D075GG16
, 5D121AA07
, 5D121FF02
, 5D121FF09
, 5D121FF11
, 5D121FF13
, 5D121GG02
, 5D121GG07
引用特許: