特許
J-GLOBAL ID:200903078411281994

真空プラズマ発生器

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行 ,  荒川 伸夫
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-502214
公開番号(公開出願番号):特表2008-533687
出願日: 2006年03月01日
公開日(公表日): 2008年08月21日
要約:
真空チャンバ(2)内でのパルスプラズマ処理による加工物(5)の加工のために、プラズマ放電(10)に給電する真空プラズマ発生器であって、交流電源接続(6a)を有する発生器出力(9,9’)と、交流電源電圧をきれいな直流電圧に変換するための電源整流器装置(6)と、平滑コンデンサ(6b)と、中間回路電圧(Uz)を形成する直流出力電圧を調整するための手段を有するクロック動作させたDC-DC電圧コンバータ(7)としての第1段とが含まれ、変圧器(14)の一次巻線に給電する制御された遮断器(7a)が含まれ、該変圧器の二次巻線は整流器(15)および下流の中間回路コンデンサ(12)と接続されておりかつ非接地の変圧器二次回路(23)を形成し、その際、この非接地の変圧器二次回路が下流の第2段と接続されており、この第2段がパルス出力段(8)を形成し、このパルス出力段が発生器出力(9,9’)に接続している真空プラズマ発生器において、該DC-DC電圧コンバータ(7)が少なくとも2つの非接地の変圧器二次回路(23)を有し、かつ該非接地の変圧器二次回路(23)の選択的な並列または直列の接続のためのスイッチ制御装置(22)を備えた切換スイッチ装置(20)を含む真空プラズマ発生器が実現された。
請求項(抜粋):
真空チャンバ(2)内での加工物(5)の処理のためにプラズマ放電(10)に給電するための発生器出力(9,9’)を有する真空プラズマ発生器であって、交流電源接続(6a)と、交流電源電圧を直流電圧に変換するための電源整流器装置(6)と、平滑コンデンサ(6b)と、中間回路電圧(Uz)を形成する直流出力電圧を調整する手段を有するクロック動作させたDC-DC電圧コンバータ(7)としての第1段とが備えられ、変圧器(14)の一次巻線に給電する制御された遮断器(7a)が含まれ、該変圧器の二次巻線が整流器(15)および下流の中間回路コンデンサ(12)と接続されておりかつ非接地の変圧器二次回路(23)を形成し、その際、この非接地の変圧器二次回路が下流の第2段と接続されており、この第2段がパルス出力段(8)を形成し、このパルス出力段が発生器出力(9,9’)に接続している、真空プラズマ発生器において、該DC-DC電圧コンバータ(7)が少なくとも2つの非接地の変圧器二次回路(23)を有し、かつ該非接地の変圧器二次回路(23)の選択的な並列または直列の接続のためのスイッチ制御装置(22)を備えた切換スイッチ装置(20)を含むことを特徴とする真空プラズマ発生器。
IPC (7件):
H05H 1/46 ,  H05H 1/24 ,  H05H 1/48 ,  C23C 16/515 ,  H02M 3/28 ,  H02M 7/06 ,  H02M 9/04
FI (8件):
H05H1/46 R ,  H05H1/24 ,  H05H1/48 ,  C23C16/515 ,  H02M3/28 V ,  H02M3/28 W ,  H02M7/06 S ,  H02M9/04 C
Fターム (30件):
4K030KA30 ,  5H006AA06 ,  5H006BB03 ,  5H006BB08 ,  5H006CA01 ,  5H006CB01 ,  5H006CB09 ,  5H006CC03 ,  5H006CC04 ,  5H006DA04 ,  5H730AA11 ,  5H730AS00 ,  5H730AS01 ,  5H730BB27 ,  5H730BB37 ,  5H730CC02 ,  5H730DD03 ,  5H730EE04 ,  5H730EE07 ,  5H730EE62 ,  5H730EE77 ,  5H730FV01 ,  5H790BA08 ,  5H790BB11 ,  5H790CC02 ,  5H790EA01 ,  5H790EA02 ,  5H790EA07 ,  5H790EA15 ,  5H790EA23
引用特許:
出願人引用 (6件)
  • プラズマおよび表面技術の装置に対する電源用の回路装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-202683   出願人:マグトロン・マグネート・エレクトロニッシェ・ゲレーテ・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング
  • 直流電源装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-017995   出願人:株式会社日立製作所
  • 多チャンネル直流電源
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-060403   出願人:株式会社日立製作所
全件表示
審査官引用 (8件)
  • プラズマおよび表面技術の装置に対する電源用の回路装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-202683   出願人:マグトロン・マグネート・エレクトロニッシェ・ゲレーテ・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング
  • 直流電源装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-017995   出願人:株式会社日立製作所
  • 多チャンネル直流電源
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-060403   出願人:株式会社日立製作所
全件表示

前のページに戻る