特許

J-GLOBAL ID：200903078422906716

ウェーハ収納方法およびこれに用いられるウェーハケース

発明者： 遠藤 光弘
出願人/特許権者： 三菱マテリアルシリコン株式会社
代理人 (1件)： 安倍 逸郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-118387
公開番号（公開出願番号）：特開2000-311936
出願日： 1999年04月26日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：

【要約】【課題】 密閉空間を用いず、ガス使用量も少なく、短時間でごみ侵入を防ぎ、不活性ガスをケースに充填する。不活性ガスの置換終了時を的確に検出する。ケースのごみ濾過性を高める。ケース内外圧力差を短時間で解除する。【解決手段】 ウェーハケース内を不活性ガスでパージする場合、第1フィルタに吸出ノズルを、第2フィルタにガス供給ノズルを接続する。第1フィルタを通して微細ごみ類を濾過しながら空気を吸い出し、第2フィルタで不活性ガス中の微細ごみ類を濾過しながらケース内へ不活性ガスを供給する。この結果、ウェーハケース内へのごみ類の侵入を防止しながら、短時間で不活性ガスに置換できる。ケースを外部から隔離するための真空容器が不要で、ガス使用量も少なくなる。

請求項（抜粋）：

ウェーハが収納されて、容器本体および/またはこれを密閉する蓋の外壁に、ケース内外を連通する第1のフィルタと第2のフィルタとを互いに離間して配設されたウェーハケースを準備し、上記第1のフィルタに上記ウェーハケースの内部空気の吸い出しノズルを接続する一方、上記第2のフィルタに不活性ガスの供給ノズルを接続し、その後、上記第1のフィルタを通して、上記吸い出しノズルから上記ウェーハケースの内部空気を吸い出すとともに、上記第2のフィルタを通して、上記供給ノズルから上記ウェーハケース内へ不活性ガスを供給することで、上記ウェーハケースの内部空気を不活性ガスに置換するウェーハ収納方法。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B65D 81/20 ,  B65D 85/86

FI (3件)：

H01L 21/68 V ,  B65D 81/20 E ,  B65D 85/38 R

Fターム (27件)：

3E067AA13 ,  3E067AB99 ,  3E067AC04 ,  3E067AC11 ,  3E067BA05A ,  3E067BB14A ,  3E067GA19 ,  3E096AA06 ,  3E096BA16 ,  3E096BB04 ,  3E096CA02 ,  3E096CB03 ,  3E096DA30 ,  3E096DC02 ,  3E096EA02Y ,  3E096EA04X ,  3E096FA03 ,  3E096FA29 ,  3E096GA07 ,  5F031DA08 ,  5F031EA01 ,  5F031EA02 ,  5F031EA11 ,  5F031EA14 ,  5F031NA04 ,  5F031NA14 ,  5F031NA20

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板収納容器及び基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-198428   出願人：富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社
• ウェ-ハケ-ス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-073315   出願人：三菱マテリアルシリコン株式会社