回折格子パターンの作製方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-118455
公開番号（公開出願番号）：特開平8-313713
出願日： 1995年05月17日
公開日（公表日）： 1996年11月29日
要約：

【要約】【目的】簡便な装置・動作によって、回折格子からなるセルを構成単位とするレリーフ型の回折格子パターンを作製できる方法の提供。【構成】光の反射方向、拡散方向、または光の散乱性が、領域毎に特定される光反射面を有する光反射体をマスター基板とし、前記基板に半透明鏡および感光材料をこの順に近接して配置し、感光材料側からコヒーレント光を入射し、感光材料を透過して半透明鏡で感光材料側に反射する光と、感光材料および半透明鏡を透過して前記基板で反射される光とを、感光材料表面で干渉させ、感光材料に前記基板のパターンを露光・複製する。

請求項（抜粋）：

光の反射方向、拡散方向、または光の散乱性が、領域毎に特定される光反射面を有する光反射体をマスター基板とし、前記基板の光反射面側に、半透明鏡,感光材料をこの順に近接して配置し、感光材料側よりコヒーレント光を入射し、感光材料を透過して半透明鏡で感光材料側に反射する光と、感光材料および半透明鏡を透過して前記基板の光反射面で反射する光とを、感光材料で干渉させ、感光材料に干渉縞を前記領域に対応した回折格子からなるセルとして記録することによって、前記セルを構成単位とする、前記基板に応じたパターンを作製することを特徴とする回折格子パターンの作製方法。

IPC (2件)：

G02B 5/18 , G03H 1/30

FI (2件)：

G02B 5/18 , G03H 1/30

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平1-169479
ホログラフイツク光学素子の作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-231958 出願人：凸版印刷株式会社
特開平2-230286

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