特許

J-GLOBAL ID：200903078546037384

露光装置

発明者： 深沢 俊夫
出願人/特許権者： 日本精工株式会社
代理人 (1件)： 稲葉 良幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-036054
公開番号（公開出願番号）：特開2003-115449
出願日： 2002年02月13日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
要約：

【要約】【課題】 光ビームの変調のロスを軽減した露光装置を提供する。【解決手段】感光剤を塗布した被露光材料(21)と、上記感光剤を感光させるための面露光光を発生する光源部(11)と、上記面露光光を上記被露光材料上に導く光学系(1)と、複数のミラーを選択的に駆動して上記面露光光をパターン変調するマルチミラー部(12)と、変調された上記面露光光を上記被露光材料上で移動させる可動ミラー部(13)と、上記被露光材料及び上記光学系相互間を相対的に移動する材料移動手段(2)と、上記光源部、上記マルチミラー部、上記材料移動手段を制御して上記被露光材料に所要のパターンを形成する制御手段(31)と、を備える。

請求項（抜粋）：

被露光材料と、面露光光を発生する光源部と、前記面露光光を前記被露光材料上に導く光学系と、複数のミラーを選択的に駆動して前記面露光光をパターン変調するマルチミラー部と、変調された前記面露光光を前記被露光材料上で移動させる可動ミラー部と、前記被露光材料及び前記光学系相互間を相対的に移動する材料移動手段と、前記光源部、前記マルチミラー部、前記材料移動手段を制御して前記被露光材料に所要のパターンを形成する制御手段と、を備える露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (7件)：

2H097AA03 ,  2H097CA17 ,  2H097LA10 ,  2H097LA11 ,  2H097LA12 ,  5F046BA07 ,  5F046CB02

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 画像記録装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-265538   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 光像形成方法及びその装置、画像形成装置並びにリソグラフィ用露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-148449   出願人：リコーマイクロエレクトロニクス株式会社