特許

J-GLOBAL ID：200903078606936898

有機ポリマー表面に無機薄膜を成膜する方法

発明者： ジョージ、スチーブン・エム ,  ファーガソン、ジョン・ディー ,  ワイマー、アラン・ダブリュー ,  ウィルソン、クリストファー・エー
出願人/特許権者： ザ・リージエンツ・オブ・ザ・ユニバーシテイ・オブ・コロラド
代理人 (2件)： 下田 昭 ,  赤尾 謙一郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-513707
公開番号（公開出願番号）：特表2004-535514
出願日： 2002年07月16日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：

ALD法を用いて有機ポリマー上に無機材料を成膜する。有機材料の超薄型でありコンフォーマルな被膜がこの方法により作製可能である。被膜された有機ポリマーは、隔壁材料として、またナノコンポジット、触媒担体として、半導体用途において、コーティング剤用途において、並びにその他の用途において使用可能である。

請求項（抜粋）：

ポリマー基質の表面上で連続する少なくとも2つの自己停止反応を行い、前記ポリマー基質の表面上に無機材料を成膜させることから成る無機材料をポリマー基質材料上に成膜するための方法。

IPC (3件)：

C23C16/40 ,  C23C16/44 ,  H01L21/316

FI (3件)：

C23C16/40 ,  C23C16/44 A ,  H01L21/316 X

Fターム (16件)：

4K030AA11 ,  4K030BA38 ,  4K030BA42 ,  4K030BA43 ,  4K030CA07 ,  4K030FA10 ,  4K030HA01 ,  4K030LA15 ,  5F058BA09 ,  5F058BD05 ,  5F058BF06 ,  5F058BF27 ,  5F058BF29 ,  5F058BF37 ,  5F058BH03 ,  5F058BJ02

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 化学蒸着処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-094045   出願人：三井鉱山株式会社, 三井鉱山マテリアル株式会社
• 大気圧低温プラズマ処理プラスチックボトル及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-342973   出願人：昭和電工株式会社, 昭和アルミニウム缶株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Atomic layer-controlled growth of transparent conducting ZnO on plastic substrates