特許

J-GLOBAL ID：200903078664011136

昇温脱離ガス分析装置および分析方法

発明者： 大塚 俊宏
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (2件)： 宮井 暎夫 ,  伊藤 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-320944
公開番号（公開出願番号）：特開2005-090987
出願日： 2003年09月12日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：

【課題】 加熱チャンバ内壁に吸着するハロゲン元素を吸着防止し、信頼性のあるハロゲン元素の脱離ガス特性を測定可能とする。【解決手段】 真空排気されたロードロックチャンバ1と、ロードロックチャンバ1から搬送された試料を加熱、昇温させる加熱チャンバ11とを備え、試料21から発生するハロゲン元素の脱離ガス特性を測定する昇温脱離ガス分析装置であって、加熱チャンバ11内壁の表面が、三酸化二アルミニウム膜または三酸化二クロム膜で被覆されている。加熱チャンバ内壁を高耐腐食性のある三酸化二アルミニウム膜または三酸化二クロム膜で被覆することで、試料を加熱・昇温した際、加熱チャンバ内壁に吸着するハロゲン元素(F、Cl、Brなど)の吸着防止し、信頼性のある脱離ガス特性を収集できる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

真空排気されたロードロックチャンバと、前記ロードロックチャンバから搬送された試料を加熱、昇温させる加熱チャンバとを備え、前記試料から発生するハロゲン元素の脱離ガス特性を測定する昇温脱離ガス分析装置であって、前記加熱チャンバ内壁の表面が、三酸化二アルミニウム膜または三酸化二クロム膜で被覆されていることを特徴とする昇温脱離ガス分析装置。

IPC (6件)：

G01N25/00 ,  G01N1/22 ,  G01N1/28 ,  G01N23/227 ,  G01N25/02 ,  G01N27/62

FI (6件)：

G01N25/00 K ,  G01N1/22 L ,  G01N23/227 ,  G01N25/02 A ,  G01N27/62 V ,  G01N1/28 K

Fターム (34件)：

2G001AA01 ,  2G001BA08 ,  2G001CA03 ,  2G001GA01 ,  2G001KA13 ,  2G001MA05 ,  2G001NA07 ,  2G001NA13 ,  2G001NA17 ,  2G001PA02 ,  2G001PA07 ,  2G001RA01 ,  2G001RA02 ,  2G001RA03 ,  2G001RA04 ,  2G001RA10 ,  2G001RA20 ,  2G001SA10 ,  2G040AA02 ,  2G040AB11 ,  2G040BA25 ,  2G040BB01 ,  2G040EB02 ,  2G040EC06 ,  2G040ZA01 ,  2G052AA13 ,  2G052AC28 ,  2G052AD13 ,  2G052AD33 ,  2G052AD42 ,  2G052DA21 ,  2G052EB01 ,  2G052EB11 ,  2G052GA24

引用特許：

出願人引用 (1件)

• PDPパネル封入ガス分析方法およびPDPパネル封入ガス分析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-170137   出願人：松下電器産業株式会社