特許

J-GLOBAL ID：200903078686772386

ポリサイラミンと強酸との複合体

発明者： 緒方 直哉
出願人/特許権者： アヴェンティス・リサーチ・ウント・テクノロジーズ・ゲーエムベーハー・ウント・コー・カーゲー
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-122403
公開番号（公開出願番号）：特開平11-323137
出願日： 1998年05月01日
公開日（公表日）： 1999年11月26日
要約：

【要約】【課題】 新規な高分子電解質膜を得ること。【解決手段】 下記式に示される繰り返し単位を有するポリサイラミンと[-N(R1)-A1-Si(R2)(R3)-B-]n(ただし、式中、R1、R2、及びR3は、同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基であり;A1は、低級アルキル基で置換されていてもよい低級アルキレン基、式-A2-N(R4)-A3-で示される基、又は、式-A2-N(R4)-A3-N(R5)-A4-で示される基であり、A2、A3及びA4は、低級アルキレン基であり、R4及びR5は、水素原子又は低級アルキル基であり;Bは、低級アルキル基で置換されていてもよい低級アルキレン基であり、nは、2以上の整数である。);強酸との複合体。この複合体はプロトン伝導性を有するので、燃料電池の電解質膜として好適に用いられる。

請求項（抜粋）：

下記式に示される繰り返し単位を有するポリサイラミンと;[-N(R1)-A1-Si(R2)(R3)-B-]n(ただし、式中、R1、R2、及びR3は、同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基であり;A1は、低級アルキル基で置換されていてもよい低級アルキレン基、式-A2-N(R4)-A3-で示される基、又は、式-A2-N(R4)-A3-N(R5)-A4-で示される基であり、ここで、A2、A3及びA4は、同一又は異なって、低級アルキル基で置換されていてもよい低級アルキレン基であり、R4及びR5は、同一又は異なって、水素原子又は低級アルキル基であり;Bは、低級アルキル基で置換されていてもよい低級アルキレン基であり、nは、2以上の整数である。);強酸と;を含む複合体。

IPC (4件)：

C08L 83/16 ,  C08L 79/02 ,  H01M 8/02 ,  H01M 8/10

FI (4件)：

C08L 83/16 ,  C08L 79/02 ,  H01M 8/02 P ,  H01M 8/10

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 電子線用ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-091074   出願人：北辰工業株式会社
• ポリシルアミンオリゴマーおよび刺激応答性材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-092250   出願人：旭化成工業株式会社