処理方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩原康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-144566
公開番号（公開出願番号）：特開平10-321517
出願日： 1997年05月20日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：

【要約】【課題】被処理体の処理に供された処理液を極端な濃度低下をさせない状態で回収し,処理液の再生を容易にさせる処理方法を提供する。【解決手段】被処理体Gの表面に処理液を供給する処理液供給工程と,被処理体Gの周囲に回収容器35を配置させ,被処理体Gを第1の回転数で回転させることにより被処理体Gの表面上の処理液を回収容器35内に回収する処理液回収工程と,被処理体Gの表面に洗浄液を供給し,被処理体Gを第2の回転数で回転させることにより被処理体Gを洗浄する洗浄工程と,被処理体Gを第3の回転数で回転させることにより被処理体Gを乾燥させる乾燥工程とを有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

被処理体の表面に処理液を供給する処理液供給工程と,前記被処理体の周囲に回収容器を配置させる回収容器配置工程と,被処理体を第1の回転数で回転させることにより被処理体の表面上の処理液を回収容器内に回収する処理液回収工程と,前記被処理体の表面に洗浄液を供給し,被処理体を第2の回転数で回転させることにより被処理体を洗浄する洗浄工程と,前記被処理体を第3の回転数で回転させることにより被処理体を乾燥させる乾燥工程とを有することを特徴とする処理方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , H01L 21/304 351 , H01L 21/304 361

FI (3件)：

H01L 21/30 569 C , H01L 21/304 351 S , H01L 21/304 361 S

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭55-096944
特開昭56-130923
特開昭55-096944

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