特許
J-GLOBAL ID：200903078916249378
アンモニア性窒素含有排水の処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
畑中 芳実 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-084069
公開番号（公開出願番号）：特開平7-265885
出願日： 1994年03月30日
公開日（公表日）： 1995年10月17日
要約：
【要約】【目的】 アンモニア性窒素と還元性物質とが共存する排水中のアンモニア性窒素をオゾン処理によって除去するに当たり、還元性物質に起因するアンモニア性窒素除去効率の低下やオゾン消費量の増大を防止し、効率的かつ経済的にアンモニア性窒素の除去を行うことができるアンモニア性窒素含有排水の処理装置を提供する。【構成】 前段の副反応槽4と、後段の主反応槽2と、副反応槽4への排水導入機構6と、副反応槽4から主反応槽2へ排水を移送する排水移送機構8と、主反応槽2中の排水へのオゾン添加機構10と、主反応槽2で生じた排ガスを副反応槽4中の排水に添加する排ガス添加機構14と、排水に臭素イオン含有水を添加する臭素イオン添加機構20とを備えたアンモニア性窒素含有排水処理装置。
請求項（抜粋）：
主反応槽と、主反応槽の前段に設けられた副反応槽と、副反応槽にアンモニア性窒素含有排水を導入する排水導入機構と、副反応槽から主反応槽にアンモニア性窒素含有排水を移送する排水移送機構と、主反応槽中のアンモニア性窒素含有排水にオゾンを添加するオゾン添加機構と、主反応槽で生じた排ガスを副反応槽中のアンモニア性窒素含有排水に添加する排ガス添加機構と、アンモニア性窒素含有排水に臭素イオン含有水を添加する臭素イオン添加機構とを備えたことを特徴とするアンモニア性窒素含有排水の処理装置。
IPC (3件)：
C02F 1/78 ZAB
, C02F 1/58 ZAB
, C02F 1/76 ZAB
