投影露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-007835
公開番号（公開出願番号）：特開平5-166700
出願日： 1992年01月20日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：

【要約】【目的】投影光学系の開口数と2次光源の大きさが与えられたときに、焦点深度及びパターン解像性能を最適化することができ、露光精度の向上をはかり得る投影露光装置を提供すること。【構成】水銀ランプ1からの光を集光する第1集光光学系と、集光された光を均一化する均一化光学系と、均一化された光を集光してレチクル8に照射する第2集光光学系と、レチクル8を透過した光をウェハ15上に投影する投影光学系14とを具備し、レチクル8に形成されたパターンをウェハ15上に転写する投影露光装置において、均一化光学系の出射側の2次光源として、該光源の射出面内強度分布を中央部より周辺部の方を大きくする特殊絞り9′を設け、且つ投影光学系14の瞳面に、該瞳面の周辺部を通過する光がその他の部分を通過する光に対して相対的に光学的光路長が長くなるフィルタ16′を配置したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

部分的にコヒーレントな光によって照明されたマスクパターンを投影光学系を介してウェハ上に投影露光する投影露光装置において、前記マスクを照明する2次光源の強度分布,前記マスクの複素振幅透過率分布及び前記投影光学系の瞳関数複素振幅透過率分布の少なくとも一つを、逐次近似法によって、所望するパターンサイズに応じて焦点深度が最大となるように設定してなることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 311 L , H01L 21/30 311 N

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平4-251914
特開昭61-276217
特開昭49-053449

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