特許
J-GLOBAL ID：200903078938804421
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-344610
公開番号（公開出願番号）：特開平9-155307
出願日： 1995年12月04日
公開日（公表日）： 1997年06月17日
要約：
【要約】【課題】 処理液を供給して行う基板の処理装置本体の設備長を短くする。【解決手段】 処理装置本体3内で搬送中の基板Bに対して処理液を供給することによって順次洗浄処理を行う基板処理装置1において、上記処理装置本体3内で基板Bを3°〜40°傾斜した傾斜姿勢で搬送する搬送手段5と、この搬送手段5の上流側に設けられ、かつ、水平姿勢で受け入れた基板Bを上記傾斜に等しい傾斜姿勢に変更して上記処理装置本体3内に導入する基板導入部2と、上記処理装置本体3の下流側に設けられ、かつ、傾斜姿勢の基板Bを水平姿勢に戻す基板導出部4とを備えている。
請求項（抜粋）：
搬送手段により搬送中の基板に処理液を供給することによって順次基板処理を行う基板処理装置において、上記搬送手段は、搬送面が基板の搬送方向に直交する面内で水平方向に対して3°〜40°傾斜していることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
審査官引用 (1件)
-
基板洗浄装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平6-095820
出願人：カシオ計算機株式会社
前のページに戻る
