カラーフィルターの製造方法及び製造装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中島淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-070039
公開番号（公開出願番号）：特開2000-266922
出願日： 1999年03月16日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】一度形成された電着膜の再溶出を防止して、各画素のエッジ部がシャープなカラーフィルターを製造する方法、およびこれに用いられるカラーフィルターの製造装置を提供する。【解決手段】光透過性支持体11上に、光透過性導電膜12、及び光起電力機能を有する光半導体薄膜13を順次積層した基板10を、色材を含有する電着材料を含む水系電解液20に、少なくとも光半導体薄膜13が接触するように配置し、選択的に光を照射し、光半導体薄膜13の光照射部に光起電力を発生させ、電気化学的に電着材料を析出させて着色電着膜21からなるカラーフィルター層を形成する工程を含むカラーフィルターの製造方法であって、少なくとも基板10が水系電解液20に接触している間は基板10にバイアス電圧を印加する。

請求項（抜粋）：

光透過性支持体上に光透過性の導電膜、および光起電力機能を有する光半導体薄膜を順次積層した基板を、水素イオン濃度の変化により析出する色材を含有する電着材料を含む電解液に、少なくとも光半導体薄膜が接触するように配置し、選択的に光を照射し、前記光半導体薄膜の光照射部に光起電力を発生させ、電気化学的に前記電着材料を析出させて着色電着膜からなるカラーフィルター層を形成する工程を含むカラーフィルターの製造方法であって、少なくとも前記基板と前記電解液が接触している間は前記基板に一定のバイアス電圧を印加することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。

IPC (4件)：

G02B 5/20 101 , C25D 13/04 , G09F 9/00 321 , G02B 5/00

FI (4件)：

G02B 5/20 101 , C25D 13/04 , G09F 9/00 321 D , G02B 5/00 B

Fターム (20件)：

2H042AA06 , 2H042AA09 , 2H042AA15 , 2H042AA26 , 2H048BA02 , 2H048BA11 , 2H048BA62 , 2H048BB01 , 2H048BB02 , 2H048BB13 , 2H048BB14 , 2H048BB15 , 2H048BB24 , 2H048BB42 , 2H048BB46 , 5G435AA00 , 5G435AA17 , 5G435GG12 , 5G435KK07 , 5G435KK10

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開平4-104101
画像記録方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-004834 出願人：富士ゼロックス株式会社

審査官引用 (2件)

特開平4-104101
画像記録方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-004834 出願人：富士ゼロックス株式会社

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