特許
J-GLOBAL ID：200903078981722099
オルトメタル化イリジウム錯体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-366900
公開番号（公開出願番号）：特開2004-168758
出願日： 2003年10月28日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：
【課題】短時間で収率良く、効率的に高純度なオルトメタル化イリジウム錯体を製造する方法を提供する。【解決手段】ハロゲン化イリジウム化合物と有機配位子とを、反応させてオルトメタル化イリジウム錯体を製造する方法において、該反応を塩基性物質の存在下で行う。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
ハロゲン化イリジウムと有機配位子を反応させて、オルトメタル化イリジウム錯体を製造する方法において、該反応を塩基性物質の共存下で行うことを特徴とするオルトメタル化イリジウム錯体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C07F15/00 E
, H05B33/14 B
3K007AB03
, 3K007DB03
, 4H050AA02
, 4H050AB91
, 4H050BA92
, 4H050BA95
, 4H050BB42
, 4H050BE12
, 4H050WB11
, 4H050WB14
, 4H050WB21
