特許

J-GLOBAL ID：200903078997588430

液処理装置

発明者： 坂井 光広 ,  佐田 徹也
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-207334
公開番号（公開出願番号）：特開2001-035828
出願日： 1999年07月22日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：

【要約】【課題】 処理液を基板から流出させる際に、排気損失を極力少なくして、処理液ミストの回収効率を向上させることができる液処理装置を提供すること。【解決手段】 基板Gを覆うように、かつ基板Gに供給されたリンス液をスピンチャック41により振り切る際にリンス液を捕捉して下方に導くように昇降自在にカップ47を設け、カップ47の外周を覆うように設けられた容器48の底部に、リンス液を排出するドレイン管50bと、リンス液のミストを排気する排気管49とを設け、ドレイン管50bの上部開口部から上方に突出してリング状をなす堰部材57を設け、スピンチャック41により振り切られたリンス液を堰部材57の存在により容器48内に貯留し、これによりカップ47と容器48との間をシールする。

請求項（抜粋）：

基板を保持する保持部材と、基板上に処理液を供給する処理液供給ノズルと、前記基板を覆うように設けられ、基板に供給された処理液を基板から流出させる際に処理液を捕捉して下方に導くカップと、カップの外周を覆うように設けられた容器と、前記容器の底部に設けられ、基板に供給された処理液を流出させる際に処理液を排出するドレイン管と、前記カップ内を排気する排気手段と、前記ドレイン管の上部開口部から上方に突出して設けられ、リング状をなす堰部材とを具備し、基板から流出された処理液を前記堰部材の存在により前記容器内に貯留し、これにより前記カップと前記容器との間をシールすることを特徴とする液処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 651 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

H01L 21/304 648 F ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 651 A ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 569 C

Fターム (6件)：

2H096AA27 ,  2H096GA33 ,  2H096LA25 ,  5F046LA06 ,  5F046LA07 ,  5F046LA19

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 回転式基板処理装置および回転式基板処理装置用カップ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-107670   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 洗浄処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-136769   出願人：株式会社東芝