特許
J-GLOBAL ID：200903079004416989
微細構造体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-262664
公開番号（公開出願番号）：特開2001-085667
出願日： 1999年09月16日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：
【要約】【課題】 有機材料あるいは有機分子をナノスケールで微細加工方法を提供する。【解決手段】 基材10表面に、局所的に正電荷あるいは負電荷を与え、該電荷によるパターン16、18を形成する第1の工程と、負電荷あるいは正電荷を有する官能基をその構造の一部とする有機分子を含む溶液に基材を浸積し、前記電荷によるパターンに基づいて該有機分子の層20(22、24)を形成する第2工程と、を具備する微細構造体の製造方法。
請求項（抜粋）：
基材表面に、局所的に正電荷あるいは負電荷を与え、該電荷によるパターンを形成する第1の工程と、負電荷あるいは正電荷を有する官能基をその構造の一部とする有機分子を含む溶液に基材を浸積し、前記電荷によるパターンに基づいて該有機分子の層を形成する第2工程と、を具備する微細構造体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 29/06
, H01L 21/30 502 D
5F046AA28
, 5F046HA03
, 5F046JA22
, 5F046JA27
