特許
J-GLOBAL ID：200903079121446147

イン・シトゥー・プロファイル計測のための渦電流システム

発明者：
ミラー, ガブリエル, ロリマー

ミラー, ガブリエル, ロリマー について

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スウェデック, ボガスロー, エー.

スウェデック, ボガスロー, エー. について

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ビラング, マノッカー

ビラング, マノッカー について


出願人/特許権者：
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド について


代理人 (2件)： 長谷川 芳樹 ,  山田 行一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-522039
公開番号（公開出願番号）：特表2007-501509
出願日： 2004年07月27日
公開日（公表日）： 2007年01月25日
要約：
渦電流モニタリングシステムは、細長いコアを含んでもよい。1つ以上のコイルを、ウェハ上の1つ以上の導電性領域に結合できる振動磁界を発生するために、該細長いコアに結合することができる。該コアは、改善された分解能を実現できると共に、十分な信号強度を維持するように、該ウェハに対して移動させることができる。渦電流モニタリングシステムは、共振周波数で振動磁界を発生するDC結合マージナル発振器を含んでもよく、この場合、該共振周波数は、1つ以上の導電性領域に対する変化の結果として変化させてもよい。渦電流モニタリングシステムは、リアルタイム・プロファイル制御を可能にするために用いることができる。【選択図】 図2A
請求項（抜粋）：
化学機械的研磨のための装置であって、 研磨面を支持するプラテンと、 渦電流信号を生成する渦電流モニタリングシステムであって、前記プラテン内に少なくとも部分的に位置決めされた細長いコアを備え、前記細長いコアが長さと幅を有し、前記長さが前記幅よりも長い、渦電流モニタリングシステムと、 を備える、装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 ,  G01B 7/06 ,  B24B 37/04
FI (4件)：
H01L21/304 622S ,  G01B7/06 M ,  H01L21/304 622X ,  B24B37/04 K
Fターム (12件)：
2F063AA16 ,  2F063BA26 ,  2F063BB02 ,  2F063CA08 ,  2F063GA08 ,  3C058AA07 ,  3C058AC02 ,  3C058BA01 ,  3C058BA02 ,  3C058BA09 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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