特許

J-GLOBAL ID：200903079137682541

イオンビームを用いた硬質薄膜作製法

発明者： 八井 浄 ,  江 偉華 ,  鈴木 常生 ,  末松 久幸
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-296983
公開番号（公開出願番号）：特開2002-105665
出願日： 2000年09月28日
公開日（公表日）： 2002年04月10日
要約：

【要約】【課題】 基板の形状および温度特性に関わらず、硬質の結晶質薄膜を高速で作製でき、膜の表面粗さが制御可能な、イオンビームを用いた新規な硬質薄膜作製法を提供する。【解決手段】 イオンビームをターゲットに照射して発生させたアブレーションプラズマを、基板を加熱することなく、基板上に堆積させて、結晶質の硬質薄膜を形成する。

請求項（抜粋）：

イオンビームをターゲットに照射して発生させたアブレーションプラズマを、基板を加熱することなく、基板上に堆積させて、結晶質の硬質薄膜を形成することを特徴とするイオンビームを用いた硬質薄膜作製法。

IPC (2件)：

C23C 26/00 ,  C23C 14/46

FI (2件)：

C23C 26/00 E ,  C23C 14/46 Z

Fターム (17件)：

4K029BA43 ,  4K029BA55 ,  4K029BA58 ,  4K029BA59 ,  4K029BB01 ,  4K029BB03 ,  4K029CA05 ,  4K029DC37 ,  4K029EA00 ,  4K044AA11 ,  4K044BA12 ,  4K044BA18 ,  4K044BB01 ,  4K044BB10 ,  4K044BC01 ,  4K044BC06 ,  4K044CA41

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開平2-015161
  
• 特開昭60-089563
  
• 特開昭64-036763
  
• 特開昭61-243166
  

審査官引用 (4件)

• 特開平2-015161
  
• 特開昭60-089563
  
• 特開昭64-036763
  
• 特開昭61-243166