特許
J-GLOBAL ID：200903079144604831
成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-022178
公開番号（公開出願番号）：特開2001-214263
出願日： 2000年01月31日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：
【要約】【課題】 熱変形によるターゲットの冷却効果の減少を確実に防止することができる成膜装置を提供する。【解決手段】 成膜のための粒子を含む板状のターゲット1と、このターゲット1の裏面1a側に対向配置された冷却面2aを有する冷却可能なバッキングプレート2と、を備える。ターゲット1は、ターゲット1の裏面1a中央にタップ加工により形成された有底ネジ孔7を有する。バッキングプレート2は、冷却面2aに突設されて有底ネジ孔7に螺着されるネジ8を有する。
請求項（抜粋）：
成膜のための粒子を含む板状のターゲットと、このターゲットの裏面側に対向配置された冷却面を有する冷却可能なバッキングプレートと、を備え、前記ターゲットは、前記ターゲットの裏面中央にタップ加工により形成された有底ネジ孔を有し、前記バッキングプレートは、前記冷却面に突設されて前記有底ネジ孔に螺着されるネジを有することを特徴とする成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/34 C
, H01L 21/203 S
4K029DC22
, 4K029DC23
, 4K029DC25
, 5F103AA08
, 5F103BB60
, 5F103HH03
, 5F103RR04
