特許
J-GLOBAL ID：200903079183069382
感放射線性樹脂組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-173684
公開番号（公開出願番号）：特開平10-020501
出願日： 1996年07月03日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：
【要約】【課題】 定在波およびハレーションの発生が抑えられ、解像度、およびパターン形状に優れており、高精度の微細パターンを安定して形成することができ、しかも、紫外線、遠紫外線、X線あるいは荷電子線の如き各種放射線に有効に感応して、化学増幅型ポジレジストとして極めて有効な感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 (A)活性光線の照射によって酸を発生する感放射線性酸発生剤と、(B)酸の作用によって分解するすることによりアルカリ現像液に対する溶解性が向上する基を含む高分子化合物と、(C)炭素数が4以上20以下のアルキルカルボン酸および炭素数が4以上20以下のフルオロアルキルカルボン酸よりなる群より選ばれる化合物とからなる感放射線性樹脂組成物。この組成物は含窒素塩基性化合物(D)をさらに含有することができる。
請求項（抜粋）：
(A)活性光線の照射によって酸を発生する感放射線性酸発生剤と、(B)酸の作用によって分解するすることによりアルカリ現像液に対する溶解性を向上させる基を含む高分子化合物と、(C)炭素数が4以上20以下のアルキルカルボン酸および炭素数が4以上20以下のフルオロアルキルカルボン酸よりなる群から選ばれた化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/033
, H01L 21/027
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/033
, H01L 21/30 502 R
