特許
J-GLOBAL ID：200903079199282590
指定位置特定方法及び指定位置測定装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-348745
公開番号（公開出願番号）：特開2007-294391
出願日： 2006年12月26日
公開日（公表日）： 2007年11月08日
要約：
【課題】 基準パターンが繰り返し配置されたアレイ構造中の指定位置を、基準パターン計数によって特定する指定位置特定する。【解決手段】 アレイ構造像において、始点の位置、始点の番地、単位ベクトルから生成したパターン検出予測領域と、基準パターン像とのパターンマッチングで求めパターン検出位置を比較し、正検出、検出落とし、誤検出などの判断をしながらパターン計数を実施する。イメージシフト偏向器を用いて視野をずらせながらアレイ構造像を順次撮影し、始点からのパターン計数を継続し、番地で指定された終点の位置を特定する。イメージシフト偏向器のみでは終点に到達しない場合は、イメージシフト偏向器の視野移動範囲を試料ステージで移動させ、イメージシフトによる視野移動を継続させる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
試料に対して荷電粒子線を照射することにより発生する二次荷電粒子を検出して前記試料の画像データを取得し、当該取得した画像データ上の特定の始点から終点間での所定パターンの出現数をカウントする演算処理を実行する機能を備えた荷電粒子線装置において、
前記画像データを取得する荷電粒子光学系と、
当該画像データに対して前記出現数を数えるための演算処理を実行する演算装置と、
前記始点と終点の番地を表現するための座標系の指定単位である単位ベクトルを設定するための情報入力手段と、
前記画像データが表示される表示手段とを有し、
前記演算手段は、前記出現数を数えるための演算処理を前記単位ベクトルに基づき実行することを特徴とする荷電粒子線装置。
IPC (3件)：
H01J 37/22
, H01J 37/28
, H01L 21/66
H01J37/22 502H
, H01J37/28 B
, H01L21/66 Z
4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106BA03
, 4M106BA12
, 4M106BA14
, 4M106CA01
, 4M106CA10
, 4M106CA50
, 4M106CA70
, 4M106DH60
, 4M106DJ04
, 4M106DJ19
, 4M106DJ21
, 4M106DJ23
, 5C033UU05
, 5C033UU06
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示
前のページに戻る
