特許
J-GLOBAL ID：200903079353276450

水処理方法及び装置

発明者：
高橋 和義

高橋 和義 について


出願人/特許権者：
住友重機械工業株式会社

住友重機械工業株式会社 について


代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-279763
公開番号（公開出願番号）：特開2000-107753
出願日： 1998年10月01日
公開日（公表日）： 2000年04月18日
要約：
【要約】【課題】 被処理水を浄化する能力を向上させうる水処理方法及び装置を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明の水処理方法は、光出射源7が浸漬された処理槽3の被処理水1中に光触媒微粒子4を存在させ、光出射源7から発せられる光を光触媒4に照射して被処理水1を浄化する水処理方法において、被処理水1中に光触媒4を付着させた浮遊固体5を存在させ、被処理水1にガスを供給して被処理水1、浮遊固体5を流動化させ、光出射源7の汚れを防止しつつ被処理水を処理する構成である。この場合、被処理水1にガスを供給すると、光触媒4を付着させた浮遊固体5および被処理水1が流動化され、浮遊固体5の衝突で光出射源7への付着物が効果的に剥離され、絶えずきれいな状態に保持される。従って、光出射源7からの光が光触媒4に長期間十分に照射される。
請求項（抜粋）：
光出射源が浸漬された処理槽の被処理水中に光触媒微粒子を存在させ、前記光出射源から発せられる光を前記光触媒微粒子に照射して前記被処理水を浄化する水処理方法において、前記被処理水中に前記光触媒微粒子を付着させた浮遊固体を存在させ、前記被処理水にガスを供給して前記被処理水および前記浮遊固体を流動化させ、前記光出射源の汚れを防止しつつ前記被処理水を処理することを特徴とする水処理方法。
IPC (3件)：
C02F 1/30 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/36
FI (3件)：
C02F 1/30 ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/36
Fターム (19件)：
4D037AA11 ,  4D037AB02 ,  4D037AB18 ,  4D037BA16 ,  4D037BA18 ,  4D037BA26 ,  4D037BB04 ,  4D037BB05 ,  4D037CA02 ,  4D037CA12 ,  4G069AA04 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04B ,  4G069BA22B ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069CA05 ,  4G069CA15 ,  4G069DA08
引用特許：
審査官引用 (4件)
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