特許
J-GLOBAL ID：200903079412052820
無機質分離膜の製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-014266
公開番号（公開出願番号）：特開2001-162145
出願日： 2000年01月24日
公開日（公表日）： 2001年06月19日
要約：
【要約】【課題】 良好なガス透過速度および分離係数を有する無機質分離膜の製造法ならびにシクロヘキサンの脱水素反応による水素の生成反応などに用いられる膜型反応器であって、反応転化率を大幅に向上せしめたものを提供する。【解決手段】 アルコキシシランSi(OR)4-n(OH)n (R:低級アルキル基、n:0,1,2,3)および(メタ)アクリルオキシアルキル基含有アルコキシシランをアルコール溶媒中で混合し、それを加水分解して得られたゾルを無機多孔質支持体上に塗布して焼成し、無機質分離膜を製造する。かかる無機質分離膜よりなるガス分離膜を二重管の内管として用い、二重管の外管との間に触媒を充填させた膜型反応器は、シクロヘキサンからベンゼンへの脱水素反応の反応転化率、つまり水素の生成率を大幅に向上させることができ、また高純度の精製水素が得られる。
請求項（抜粋）：
一般式 Si(OR)4-n(OH)n (ここで、Rは低級アルキル基であり、nは0,1,2または3である)で表わされるアルコキシシランおよび(メタ)アクリルオキシアルキル基を有するアルコキシシランをアルコール溶媒中で混合し、混合されたアルコキシシランを加水分解して得られたゾルを無機多孔質支持体上に塗布し、焼成することを特徴とする無機質分離膜の製造法。
Fターム (19件)：
4D006GA41
, 4D006HA21
, 4D006MA01
, 4D006MA02
, 4D006MA21
, 4D006MA33
, 4D006MB04
, 4D006MC03
, 4D006MC03X
, 4D006MC65
, 4D006MC65X
, 4D006NA39
, 4D006NA41
, 4D006NA54
, 4D006NA62
, 4D006NA63
, 4D006PB63
, 4D006PB64
, 4D006PB66
出願人引用 (1件)
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PREPARATION AND EVALUATION OF INORGANIC_ORGANIC COMBINED MEMBRANE FOR HIGH TEMPERATURE GAS SEPARATIO
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