多孔性シリカ膜、それを有する積層体

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-185550
公開番号（公開出願番号）：特開2005-015308
出願日： 2003年06月27日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：

【課題】積層工程の容易性、防汚性、耐薬品性、高い機械強度等の物性がバランスして良好な多孔性シリカ膜及びそれを用いた積層体を提供する。【解決手段】空孔径0.5〜100nm、空隙率35%以上であり、かつ表面粗さRa=10nm以下であることを特徴とする多孔性シリカ膜。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

空孔径0.5〜100nm、空隙率35%以上であり、かつ表面粗さRa=10nm以下であることを特徴とする多孔性シリカ膜。

IPC (3件)：

C01B33/12 , B32B9/00 , C01B33/157

FI (3件)：

C01B33/12 C , B32B9/00 A , C01B33/157

Fターム (37件)：

4F100AA20A , 4F100AG00 , 4F100AT00B , 4F100BA02 , 4F100DD07A , 4F100DJ00A , 4F100DJ03A , 4F100GB41 , 4F100JB01 , 4F100JK01 , 4F100JK15 , 4F100JL01 , 4F100JL06 , 4F100JN01B , 4F100JN06 , 4F100YY00A , 4G059AA01 , 4G059AA08 , 4G059AC04 , 4G059EA05 , 4G059EB05 , 4G072AA25 , 4G072BB09 , 4G072BB10 , 4G072CC10 , 4G072FF01 , 4G072GG01 , 4G072GG02 , 4G072GG03 , 4G072HH30 , 4G072JJ38 , 4G072KK01 , 4G072NN21 , 4G072PP17 , 4G072TT08 , 4G072TT30 , 4G072UU01

引用特許：

審査官引用 (6件)

多孔性シリカ薄膜
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-300719 出願人：旭化成株式会社
絶縁薄膜用の多孔性シリカ薄膜
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-374711 出願人：旭化成株式会社
特開平4-285081

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