特許
J-GLOBAL ID：200903079462150483
プラズマディスプレイ用基板、プラズマディスプレイおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-017074
公開番号（公開出願番号）：特開平11-213877
出願日： 1998年01月29日
公開日（公表日）： 1999年08月06日
要約：
【要約】【課題】電極が形成された基板上に誘電体層および隔壁を形成して、高い歩留まりで高アスペクト比かつ高精細のプラズマディスプレイ用隔壁を製造する。【解決手段】基板上に形成した電極層の上に誘電体層を形成した基板であって、該誘電体層の正規反射率が15%以下であることを特徴とするプラズマディスプレイ用基板。電極が形成された基板上に、誘電体層A用ペーストを塗布後、焼成して誘電体層Aを形成し、その上に誘電体層B用ペーストを塗布して正規反射率が15%以下である塗布膜を形成し、次いで無機微粒子と感光性有機成分からなる隔壁用ペーストを塗布して、フォトリソグラフィ法により、隔壁パターンを形成した後に、前記誘電体層B用塗布膜と隔壁パターンを同時に焼成することを特徴とするプラズマディスプレイ基板の製造方法。
請求項（抜粋）：
基板上に形成した電極層の上に誘電体層を形成したプラズマディスプレイ用基板であって、該誘電体層の正規反射率が15%以下であることを特徴とするプラズマディスプレイ用基板。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J 9/02 F
, H01J 11/02 B
