特許

J-GLOBAL ID：200903079504379869

フォトレジストフィルム

発明者： 日向 淳悦 ,  佐藤 弘章
出願人/特許権者： 日本合成化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-194816
公開番号（公開出願番号）：特開平11-024259
出願日： 1997年07月04日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：

【要約】【課題】 感度、解像度、密着性、抑泡性、耐エッチング性に非常に優れたフォトレジストフィルムを提供すること。【解決手段】 支持体フィルム、感光性樹脂組成物層、保護フィルムからなるフォトレジストフィルムにおいて、支持体フィルムのヘイズ値が0.01〜1.5%であり、かつ、感光性樹脂組成物層が(a)カルボキシル基含有ポリマー、(b)エチレン性不飽和化合物、(c)ロフィン二量体、(d)光重合開始剤、(e)ロイコ染料を含有してなり、(b)成分として特定化合物を(b)成分全体に対して50〜100重量%含有し、更に(a)成分と(b)成分の総重量に対して(c)成分を0.5〜6.0重量%、(d)成分を0.1〜10重量%、(e)成分を0.1〜3.0重量%含有してなるフォトレジストフィルム。

請求項（抜粋）：

支持体フィルム(I)、感光性樹脂組成物層(II)、保護フィルム(III)からなるフォトレジストフィルムにおいて、支持体フィルム(I)のヘイズ値が0.01〜1.5%であり、かつ、感光性樹脂組成物層(II)が(a)カルボキシル基含有ポリマー、(b)エチレン性不飽和化合物、(c)ロフィン二量体、(d)光重合開始剤、(e)ロイコ染料を含有してなり、(b)成分として下記?@式で示される化合物を(b)成分全体に対して50〜100重量%含有し、更に(a)成分と(b)成分の総重量に対して(c)成分を0.5〜6.0重量%、(d)成分を0.1〜10重量%、(e)成分を0.1〜3.0重量%含有してなることを特徴とするフォトレジストフィルム。【化1】(ここで、R1、R2は炭素数1〜3のアルキル基又は水素で、それらは同一であってもよいし、互いに異なっていてもよい。nは4〜20の整数である。)

IPC (9件)：

G03F 7/031 ,  C08F 2/50 ,  C08F220/20 ,  C08F290/06 ,  C08F299/02 ,  G03F 7/004 507 ,  G03F 7/027 511 ,  G03F 7/032 ,  H05K 3/06

FI (9件)：

G03F 7/031 ,  C08F 2/50 ,  C08F220/20 ,  C08F290/06 ,  C08F299/02 ,  G03F 7/004 507 ,  G03F 7/027 511 ,  G03F 7/032 ,  H05K 3/06 H

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 感光性フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-255242   出願人：日立化成工業株式会社
• 光重合性樹脂材料及びこれを用いたプリント回路の作成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-149395   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-127185   出願人：日立化成工業株式会社
• 特開平3-205404