特許
J-GLOBAL ID:200903079505051620

Ruスパッタリングターゲット材の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-259321
公開番号(公開出願番号):特開2009-084667
出願日: 2007年10月03日
公開日(公表日): 2009年04月23日
要約:
【課題】 Ru原料粉末の特定不純物の低減を容易にかつ安価に実現すると同時に、高純度で均質性の高いRuスパッタリングターゲットを作製する方法を提供する。【解決手段】 Ru原料粉末に、100Pa以下の減圧雰囲気で、温度900〜1300°Cかつ30分以上の加熱処理を施すことで、C:50massppm以下、O:400massppm以下、Cl:10massppm以下に低減するとともに前記Ru原料粉末よりも粒成長させた成長させたRu粉末とし、次いで該Ru粉末を加圧焼結するRuスパッタリングターゲット材の製造方法である。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
Ru原料粉末に、100Pa以下の減圧雰囲気で、温度900〜1300°Cかつ30分以上の加熱処理を施すことで、C:50massppm以下、O:400massppm以下、Cl:10massppm以下に低減するとともに前記Ru原料粉末よりも粒子サイズを成長させたRu粉末とし、次いで該Ru粉末を加圧焼結することを特徴とするRuスパッタリングターゲット材の製造方法。
IPC (3件):
B22F 1/00 ,  C23C 14/34 ,  C22C 5/04
FI (3件):
B22F1/00 C ,  C23C14/34 A ,  C22C5/04
Fターム (11件):
4K018AA02 ,  4K018BA01 ,  4K018BB04 ,  4K018BC02 ,  4K018EA15 ,  4K018HA08 ,  4K018KA32 ,  4K029BA02 ,  4K029BD11 ,  4K029DC03 ,  4K029DC09
引用特許:
出願人引用 (3件)

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