回転処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：浅井章弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-300279
公開番号（公開出願番号）：特開平6-124885
出願日： 1992年10月13日
公開日（公表日）： 1994年05月06日
要約：

【要約】【目的】被処理基板の位置合わせを自動的に行うことができる回転処理装置を提供する。【構成】アーム部8と回転保持手段20を有する回転処理装置において、被処理基板Wの半径方向へ移動可能になされた基板センサ手段22を設ける。そして、制御部24は、被処理基板Wの切り欠き48の位置を求めるときはセンサ手段22を基板の周縁部に位置させた状態で基板を回転することによりその時のセンサ手段の出力に基づいて求める。また、偏心量を求める時には、センサ手段22をサーチ状態にして基板の外方より基板に近づける操作を相互に基板の中心部に対して反対方向から行うことによりその時のセンサ手段の出力に基づいて求める。そして、得られた値に基づいてアーム部を操作し、基板を適正な位置に載置し直す。

請求項（抜粋）：

切り欠きを有する被処理基板を保持して移動させるアーム部と、前記被処理基板に所定の処理を施すべくこれを回転可能に載置保持する回転保持手段を有する回転処理装置において、前記被処理基板の半径方向へ移動可能になされて前記被処理基板の存在を検知する基板センサ手段と、前記基板センサ手段の出力に基づいて前記被処理基板の回転の偏心量を求めて、求められた値により前記アーム部を制御して前記被処理基板を前記回転保持手段の適正な位置に載置させる制御部とを備えたことを特徴とする回転処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , B05C 11/08 , G03F 7/16 502 , H01L 21/68

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平4-044310
特開平4-184913
特開平4-030417

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