特許
J-GLOBAL ID：200903079789282707
光学機器の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
横沢 志郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-319729
公開番号（公開出願番号）：特開2006-134957
出願日： 2004年11月02日
公開日（公表日）： 2006年05月25日
要約：
【課題】 光学機器の製造工程で半導体レーザの角度位置の調整などを行う際、煩雑なアルゴリズムを用いなくても、半導体レーザ素子の発光パターンの傾きを精度よく検出可能な光学機器の製造方法を提供すること。【解決手段】 光ヘッド装置などの光学機器の製造する際、半導体レーザ素子20の角度位置検出工程では、半導体レーザ素子20を発振しきい値未満の電流で駆動して半導体レーザ素子20の端面を自然放出モードで線状に発光させ、線状の発光パターンの観察結果に基づいて、半導体レーザ素子20の光軸周りの角度位置を検出する。その際、線状の発光パターンを画像処理して発光パターンの直線近似パターンを求め、直線近似パターンに基づいて、半導体レーザ素子20の光軸周りの角度位置を検出してもよい。かかる検出結果は、半導体レーザ素子20の角度位置などを調整するのに利用できる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
半導体レーザ素子を発振しきい値未満の電流で駆動して前記半導体レーザ素子の端面を自然放出モードで線状に発光させ、当該線状の発光パターンの観察結果に基づいて、前記半導体レーザ素子の光軸周りの角度位置を検出する角度位置検出工程を有していることを特徴とする光学機器の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (9件)：
5D789AA38
, 5D789FA05
, 5D789FA37
, 5D789LB04
, 5D789NA02
, 5F173ZM03
, 5F173ZP17
, 5F173ZQ05
, 5F173ZR10
