特許
J-GLOBAL ID：200903079796369931
固体電解コンデンサの製造方法および固体電解コンデンサ
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大石 皓一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-194676
公開番号（公開出願番号）：特開2003-092233
出願日： 2002年07月03日
公開日（公表日）： 2003年03月28日
要約：
【要約】【課題】 電極である弁金属基体を損傷させることなく、常温で、かつ、短時間に、ポリエチレンジオキシチオフェンを含む固体高分子電解質層を形成することができ、かつ、漏れ電流の小さい固体電解コンデンサの製造方法を提供する。【解決手段】 表面が粗面化され、絶縁性酸化皮膜9が形成された弁金属からなる基体2に、エチレンジオキシチオフェン溶液を含浸させる第1の工程と、基体2に、1重量%ないし7重量%の濃度の4価のセリウム塩を含む酸化剤溶液を接触させる第2の工程とを、第2の工程を実行する合計時間が、5分未満となるように、複数回にわたって、繰り返して、基体2の表面上に、固体高分子電解質層11を形成することを特徴とする固体電解コンデンサの製造方法。
請求項（抜粋）：
表面が粗面化され、絶縁性酸化皮膜が形成された弁金属からなる第1の基体の表面上に、固体高分子電解質層を形成する工程を含む固体電解コンデンサの製造方法であって、前記固体高分子電解質層を形成する工程が、前記第1の基体に、エチレンジオキシチオフェン溶液を含浸させる第1の工程と、前記第1の基体に、1重量%ないし7重量%の濃度の4価のセリウム塩を含む酸化剤溶液を接触させる第2の工程と、前記第1の工程と、前記第2の工程を、複数回にわたって、繰り返す工程を含み、前記第2の工程を実行する合計時間が、5分未満であることを特徴とする固体電解コンデンサの製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01G 9/02 331 H
, H01G 9/24 C
, H01G 9/02 331 G
