特許
J-GLOBAL ID：200903079833032330
流体エジェクタを利用してマイクロカプセルを製造する方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
後藤 政喜
, 松田 嘉夫
, 上野 英夫
, 飯田 雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-016443
公開番号（公開出願番号）：特開2005-211898
出願日： 2005年01月25日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：
【課題】 マイクロカプセル内の滴体積の再現性をより制御するとともに、滴体積の分布の幅を狭める。【解決手段】 マイクロカプセル(210、212)を製造する方法は、コア成分を含む第1の流体に連通している流体エジェクタ(126)を10キロヘルツよりも高い周波数で作動させて、前記流体エジェクタのそれぞれの作動によって実質的に1つの滴を生成すること(390)、前記第1の流体の所定体積を有する前記実質的に1つの滴を第2の流体内に噴射すること(392)、および、噴射された前記第1の流体のそれぞれの滴について、前記第2の流体内で前記コア成分を含む該マイクロカプセルを生成すること(394)を含む。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
マイクロカプセルを製造する方法であって、
コア成分を含む第1の流体に連通している流体エジェクタを10キロヘルツよりも高い周波数で作動させて、前記流体エジェクタのそれぞれの作動によって実質的に1つの滴を生成すること、
所定体積を有する前記第1の流体の前記実質的に1つの滴を第2の流体内に噴射すること、および
噴射された前記第1の流体のそれぞれの滴について、前記第2の流体内で前記コア成分を含む該マイクロカプセルを生成すること
を含むことを特徴とする、マイクロカプセルを製造する方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B01J13/02 A
, B01J13/02 E
4G005AA01
, 4G005BA05
, 4G005CA01
, 4G005DD27Z
, 4G005DD57Y
, 4G005DD58Y
, 4G005DE04Y
, 4G005EA03
, 4G005EA04
