特許

J-GLOBAL ID：200903079937876069

金属酸化物の製造方法及び微細パターンの形成方法

発明者： 水田 進 ,  土屋 哲男 ,  渡邊 昭雄 ,  今井 庸二 ,  山口 巌 ,  熊谷 俊弥 ,  真部 高明 ,  新納 弘之 ,  矢部 明
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-308644
公開番号（公開出願番号）：特開2001-031417
出願日： 1999年10月29日
公開日（公表日）： 2001年02月06日
要約：

【要約】【課題】従来塗布熱分解法として知られている高温下で熱処理することなく、金属酸化物の製造方法の提供。【解決手段】金属有機化合物(金属有機酸塩、金属アセチルアセトナート錯体、炭素数6以上の有機基を有する金属アルコキシド)を溶媒に溶解させて溶液状とし、これを基板に塗布した後に、乾燥させ、波長400nm以下のレ-ザ-光を照射することにより基板上に金属酸化物を形成することを特徴とする金属酸化物の製造方法。

請求項（抜粋）：

金属有機化合物を溶媒に溶解させて溶液状とし、これを基板に塗布した後に、乾燥させ、波長400nm以下のレ-ザ-光を照射することにより基板上に金属酸化物を形成することを特徴とする金属酸化物の製造方法。

IPC (2件)：

C01G 1/02 ,  C23C 18/14

FI (2件)：

C01G 1/02 ,  C23C 18/14

Fターム (10件)：

4K022BA06 ,  4K022BA09 ,  4K022BA10 ,  4K022BA14 ,  4K022BA15 ,  4K022BA17 ,  4K022BA21 ,  4K022BA26 ,  4K022BA33 ,  4K022DA08

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開平1-294506
  
• 金属酸化物薄膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-345322   出願人：株式会社関西新技術研究所
• 特開昭59-213602
  
• 特開昭8-111411
  

審査官引用 (2件)

• 特開平1-294506
  
• 金属酸化物薄膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-345322   出願人：株式会社関西新技術研究所