特許
J-GLOBAL ID：200903080017032703

疎水性正帯電シリカ微粉末、その製造方法ならびにそれを外添剤として添加した静電潜像現像用トナー

発明者：
浅田 幸伸

浅田 幸伸 について


出願人/特許権者：
テイカ株式会社

テイカ株式会社 について


代理人 (2件)： 三輪 鐵雄 ,  三輪 英樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-117688
公開番号（公開出願番号）：特開2006-290712
出願日： 2005年04月15日
公開日（公表日）： 2006年10月26日
要約：
【課題】 流動性が優れ、かつ帯電性能の環境安定性が良好で、鮮鋭性の高い画像が安定して得られる静電潜像現像用トナーを得るのに適した疎水性正帯電シリカ微粉末を提供し、また、その疎水性正帯電シリカ微粉末を外添剤として添加することによって上記特性を有する静電潜像現像用トナーを提供する。【解決手段】 シリカをアミノ基を含有するケイ素化合物とアミノ基を含有しないケイ素化合物とで疎水化処理するとともに、疎水化処理前のシリカのBET比表面積S(m2/g)とシリカに対するアミノ基を含有するケイ素化合物の添加量A(質量%)とアミノ基を含有しないケイ素化合物の添加量B(質量%)とに関して、0.10≦(A+B)/S≦0.30、0.5≦A/B≦2.0の関係を持たせて疎水性正帯電シリカ微粉末を構成し、その疎水性正帯電シリカ微粉末を外添剤として添加して静電潜像現像用トナーを構成する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
2種のケイ素化合物で疎水化処理された疎水性正帯電シリカ微粉末であって、2種のケイ素化合物のうち1種がアミノ基を含有するケイ素化合物であり、他の1種がアミノ基を含有しないケイ素化合物であって、疎水化処理前のシリカのBET比表面積をS(m2/g)とし、このシリカに対するアミノ基を含有するケイ素化合物の添加量をA(質量%)とし、アミノ基を含有しないケイ素化合物の添加量をB(質量%)とするとき、上記S、A、Bに関して、(A+B)/Sの数値(M)が0.10≦M≦0.30で、かつ0.5≦A/B≦2.0の関係を満たすことを特徴とする疎水性正帯電シリカ微粉末。
IPC (3件)：
C01B 33/18 ,  G03G 9/08 ,  G03G 9/087
FI (4件)：
C01B33/18 C ,  G03G9/08 371 ,  G03G9/08 375 ,  G03G9/08 381
Fターム (23件)：
2H005AA08 ,  2H005AB02 ,  2H005CB13 ,  2H005DA01 ,  2H005DA05 ,  2H005EA01 ,  2H005EA05 ,  2H005EA07 ,  2H005EA10 ,  4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072DD08 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072JJ46 ,  4G072MM09 ,  4G072MM31 ,  4G072RR12 ,  4G072TT01 ,  4G072TT06 ,  4G072UU04 ,  4G072UU30
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (6件)
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