特許
J-GLOBAL ID:200903080060897629

電子ビーム装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井島 藤治 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-097233
公開番号(公開出願番号):特開平11-297263
出願日: 1998年04月09日
公開日(公表日): 1999年10月29日
要約:
【要約】【課題】 大きな試料でも短時間に試料の広い領域の検査を行うことができる電子ビーム装置を実現する。【解決手段】 一次電子ビーム5は、紙面に垂直な磁界Bを発生している磁界型偏向器9によって図中右回りに偏向され、そして、電子レンズ10によってウエハ試料11上に細く集束される。ここで、試料11の前面には一次電子ビームに対して減速電界が形成されている。試料11から発生した2次電子や反射電子はこの減速電界により加速され、上方に取り出される。電極12の開口を通った電子16は、偏向器9によって紙面上右回りに偏向を受ける。このため、電子16の光路は、一次電子ビーム5の光路とこの偏向器9によって分離される。偏向器9によって偏向された電子16は、MCP18、蛍光スクリーン20、位置対応検出器22より成る検出系により検出される。
請求項(抜粋):
一次電子ビームをライン状に成形する手段と、ライン状の一次電子ビームを試料に照射するための手段と、試料への一次電子ビームの照射によって発生した電子を検出するためのライン状に配置された位置対応検出器と、試料を2次元的に移動させる移動手段とを備えた電子ビーム装置。
IPC (4件):
H01J 37/28 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/244 ,  H01L 21/66
FI (4件):
H01J 37/28 B ,  H01J 37/20 D ,  H01J 37/244 ,  H01L 21/66 J
引用特許:
審査官引用 (7件)
  • ウェーハパターンの欠陥検出方法及び同装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-041346   出願人:株式会社東芝
  • 欠陥検査装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-247161   出願人:株式会社ニコン
  • 電子線装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-080065   出願人:株式会社日立製作所
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