特許
J-GLOBAL ID：200903080148893402

粒子線治療システム

発明者：
齋藤 一義

齋藤 一義 について

, 
櫻畠 広明

櫻畠 広明 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (2件)： 井上 学 ,  戸田 裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-288002
公開番号（公開出願番号）：特開2009-112483
出願日： 2007年11月06日
公開日（公表日）： 2009年05月28日
要約：
【課題】 スポットスキャニング法などの高精度な粒子線治療に好適な照射ビームを実現する。【解決手段】 上記課題を達成するための粒子線治療システムは、荷電粒子ビームを所定のエネルギーまで加速し、安定限界を越えた前記荷電粒子ビームを出射するシンクロトロンと、前記荷電粒子ビームを照射対象に照射する照射装置と、前記シンクロトロンから出射した前記荷電粒子ビームを前記照射装置に輸送するビーム輸送系と、前記シンクロトロンを周回する前記荷電粒子ビームの一部を除去した後、周回する他の前記荷電粒子ビームを前記シンクロトロンから出射して前記照射装置に輸送するように制御する制御装置を有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビームを所定のエネルギーまで加速し、安定限界を越えた前記荷電粒子ビームを出射するシンクロトロンと、 前記荷電粒子ビームを照射対象に照射する照射装置と、 前記シンクロトロンから出射した前記荷電粒子ビームを前記照射装置に輸送するビーム輸送系と、 前記シンクロトロンを周回する前記荷電粒子ビームの一部を除去した後、周回する他の前記荷電粒子ビームを前記シンクロトロンから出射して前記照射装置に輸送するように制御する制御装置を有することを特徴とする粒子線治療システム。
IPC (2件)：
A61N 5/10 ,  H05H 13/04
FI (5件)：
A61N5/10 H ,  A61N5/10 P ,  H05H13/04 N ,  H05H13/04 E ,  H05H13/04 G
Fターム (20件)：
2G085AA13 ,  2G085BA13 ,  2G085BA15 ,  2G085BA20 ,  2G085BC15 ,  2G085CA05 ,  2G085CA24 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE01 ,  4C082AG02 ,  4C082AG05 ,  4C082AG09 ,  4C082AG13 ,  4C082AG27 ,  4C082AN01 ,  4C082AN05 ,  4C082AP11 ,  4C082AR01
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 特許2833602号公報
  • 特許3874766号公報
  • 特許2596292号公報
審査官引用 (1件)

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