化学増幅型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中山亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-056890
公開番号（公開出願番号）：特開2008-216854
出願日： 2007年03月07日
公開日（公表日）： 2008年09月18日
要約：

【課題】より高い解像度と良好なラインエッジラフネスを示す化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)(Q1:環状構造を有していてもよいパーフルオロアルキル基、A+:有機対カチオン)で示されるオニウム塩と、式(II)(R22:直鎖又は分岐の炭素数1〜20の置換されていてもよい炭化水素基、炭素数3〜30の置換されていてもよい環式炭化水素基Q3,Q4:フッ素原子または炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基、B+:有機対カチオン)で示されるスルホニウム塩とを含有する酸発生剤、並びに、酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂を含有する化学増幅型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)

IPC (3件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (12件)：

2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025FA10 , 2H025FA12 , 2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (1件)

化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びスルホニウム塩
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-255119 出願人：住友化学工業株式会社

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