特許

J-GLOBAL ID：200903066246419210

化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びスルホニウム塩

発明者： 井上 博貴 ,  上谷 保則
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-255119
公開番号（公開出願番号）：特開2002-030067
出願日： 2000年08月25日
公開日（公表日）： 2002年01月29日
要約：

【要約】【課題】 透過率や解像度が高く、良好なプロファイルを与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂及び酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物であって、該酸発生剤として、下式(I)で示されるスルホニウム塩と、(IIa)及び(IIb)(式中、式中、Q1、Q2、Q3、Q4は互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基を表すか、Q1とQ2、Q3とQ4が互いに独立に隣接する硫黄原子と一緒になってさらに酸素原子、硫黄原子を含んでいてもよい炭素数2〜8の脂環基を表し、mは1〜8の整数を表す。Q5 、Q6、Q7、Q8 及びQ9 は互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル又はアルコキシ、p及びqは1〜8の整数を表す)で示される塩から選ばれる少なくとも1種の塩とを併用する。また、式(I)のスルホニウム塩化合物も提供される。

請求項（抜粋）：

下式(I)(式中、Q1、Q2、Q3、Q4は互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基を表すか、Q1とQ2、Q3とQ4が互いに独立に隣接する硫黄原子と一緒になってさらに酸素原子、硫黄原子を含んでいてもよい炭素数2〜8の脂環基を表し、mは1〜8の整数を表す)で示される脂肪族スルホニウム塩と、下式(IIa)で示されるトリフェニルスルホニユム塩及び下式(IIb)で示されるジフェニルヨードニユム塩(式中、Q5 、Q6、Q7、Q8 及びQ9 は互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル又は炭素数1〜6のアルコキシを表し、q及びpは1〜8の整数を表す)から選ばれる少なくとも1種のオニウム塩とを含む酸発生剤並びに、酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (7件)：

C07C381/12 ,  C07D333/46 ,  C08K 5/42 ,  C08L 33/06 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

C07C381/12 ,  C07D333/46 ,  C08K 5/42 ,  C08L 33/06 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (24件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB10 ,  2H025CB43 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4H006TN40 ,  4J002BG031 ,  4J002BH021 ,  4J002EU047 ,  4J002EV236 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 感光性化合物および感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-233820   出願人：日本電気株式会社
• レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-312722   出願人：富士通株式会社
• アルキルスルホニウム塩
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-174528   出願人：日本電気株式会社
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-238542   出願人：住友化学工業株式会社