特許

J-GLOBAL ID：200903080188987213

赤外線吸収材料

発明者： 田島 真治 ,  中曽根 聡
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 塩澤 寿夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-287013
公開番号（公開出願番号）：特開平8-143853
出願日： 1994年11月22日
公開日（公表日）： 1996年06月04日
要約：

【要約】【目的】 赤外領域にのみ吸収特性を有し、可視光領域では吸収を行わない新たな赤外線吸収素材及びインキの提供。【構成】 イッテルビウムと酸との塩(但し、YbPO4 を除く)からなる赤外線吸収材料。例えば、硫酸イッテルビウム、酢酸イッテルビウム。この赤外線吸収材料及びインキビヒクルを含有するインキ。このインキを用いることで、975nm付近に強い吸収を有する不可視非情報パターン、例えば検知マークや、不可視非情報パターン、例えばコードパターン等を形成できる。このインキを用いて形成したコードパターンは、肉眼では視認不可能であり、かつ優れた赤外線吸収特性を有する。さらに、このインキを用いて形成したOHP等の透明シートの光学的検知マークは、透明であり、かつ赤外線で検知できる。

請求項（抜粋）：

イッテルビウムと酸との塩(但し、YbPO4 を除く)からなることを特徴とする赤外線吸収材料。

IPC (3件)：

C09K 3/00 105 ,  B41M 3/14 ,  C09D 11/00 PSX

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 赤外線吸収ガラス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-335590   出願人：大日本印刷株式会社