特許
J-GLOBAL ID：200903080195504988

ブテンエチレン共重合体の製造方法

発明者：
日野 高広

日野 高広 について

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花岡 秀典

花岡 秀典 について

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千田 太一

千田 太一 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 中山 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-064804
公開番号（公開出願番号）：特開2008-222898
出願日： 2007年03月14日
公開日（公表日）： 2008年09月25日
要約：
【課題】遷移金属錯体を提供すること。【解決手段】下記式(1)で示される遷移金属錯体を構成成分として含むオレフィン重合用触媒の存在下、1-ブテン含量が60mol%以上、Mwが200,000以上及びMw/Mnが3以下であるブテンエチレン共重合体を得ることを特徴とするブテンエチレン共重合体の製造方法。(M は周期律表の第4族の遷移金属原子を、Aは周期律表の第16族の原子を、Bは周期律表の第14族の原子を示す。Flu はフルオレニル形アニオン骨格基であり、X1及びX2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基を、R1 、R2 、R3及びR4 は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基を示し、R5 及びR6 は水素原子、アルキル基を示す。)で示される遷移金属錯体。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記式(1)で示される遷移金属錯体を構成成分として含むオレフィン重合用触媒の存在下、1-ブテン含量が60mol%以上、Mwが200,000以上及びMw/Mnが3以下であるブテンエチレン共重合体を得ることを特徴とするブテンエチレン共重合体の製造方法。 式(1)
IPC (2件)：
C08F 4/659 ,  C08F 210/08
FI (2件)：
C08F4/6592 ,  C08F210/08
Fターム (23件)：
4J100AA02Q ,  4J100AA04P ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA25 ,  4J100FA10 ,  4J128AA01 ,  4J128AB01 ,  4J128AC08 ,  4J128AC10 ,  4J128AD02 ,  4J128AD13 ,  4J128BA01B ,  4J128BB01B ,  4J128BC15B ,  4J128EA01 ,  4J128EB02 ,  4J128EB05 ,  4J128EC03 ,  4J128GA01 ,  4J128GA06 ,  4J128GA19
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)

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