特許
J-GLOBAL ID:200903080250311787
排水処理剤供給システム
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小島 清路 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-014821
公開番号(公開出願番号):特開2003-211148
出願日: 2002年01月23日
公開日(公表日): 2003年07月29日
要約:
【要約】【課題】 排水処理剤に含有する各処理剤成分の無駄が少なく適切な成分及び量を含む排水処理剤を供給することができる排水処理剤供給システムを提供する。【解決手段】 本排水処理剤供給システムは、複数の処理剤成分の1種又は2種以上を配合してなる排水処理剤を供給するために、必要な処理剤成分及びその配合比率を求めるため処理剤成分決定手段を備える。このため、処理剤成分の無駄がなく、かつ排水を適正に処理することができる排水処理剤の成分比率を求め、この排水処理剤を供給することができる。また、排水の品質が異なる複数箇所へ、それぞれ適正に排水処理し、かつ無駄のない排水処理剤を容易に供給することができる。更に、排水の品質が変化しても、品質入力が容易であるため、対応する排水処理剤を容易に供給することができる。
請求項(抜粋):
複数の処理剤成分の1種又は2種以上を配合してなる排水処理剤を供給するために、該排水処理剤を投入する対象の排水の品質情報を入力する排水品質入力手段と、該排水を処理するために必要な該処理剤成分及びその配合比率を該品質情報から求めるための処理剤成分配合情報を記憶する処理剤成分配合記憶手段と、該排水品質入力手段により入力した該品質情報、並びに該処理剤成分配合情報から該排水処理剤に含まれる該処理剤成分及びその処理剤成分の配合比率を決定する処理剤成分決定手段と、該処理剤成分決定手段によって決定した該処理剤成分及びその処理剤成分の該配合比率を出力する処理剤成分出力手段と、を備えることを特徴とする排水処理剤供給システム。
IPC (4件):
C02F 1/00 ZAB
, C02F 1/00
, C02F 3/00
, C02F 3/12
FI (6件):
C02F 1/00 ZAB T
, C02F 1/00 K
, C02F 1/00 P
, C02F 3/00 A
, C02F 3/00 D
, C02F 3/12 V
Fターム (11件):
4D027AB01
, 4D027AB11
, 4D027BA02
, 4D027BA13
, 4D028AB00
, 4D028AC03
, 4D028AC09
, 4D028BC01
, 4D028CA00
, 4D028CC01
, 4D028CE02
引用特許:
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