特許
J-GLOBAL ID：200903080251888514

収束イオンビーム加工装置

発明者：
饗場 利明

饗場 利明 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-056494
公開番号（公開出願番号）：特開平7-273087
出願日： 1994年03月28日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：
【要約】【目的】 微小な加工幅を正確に測定でき、さらに加工幅が設定値に達した場合、自動的に加工を停止する収束イオンビーム加工装置を提供する。【構成】 イオン光学系1からイオンビーム2を試料3に照射して試料3を加工すると共に、加工面5にエネルギー線14を照射し加工幅部22に対応するエネルギー出力16を検出系18で検出して制御系20に送り、加工を制御する。
請求項（抜粋）：
イオン源と、イオン源で発生するイオンをイオンビームに収束すると共にイオンビームの試料加工部への照射を制御するイオン光学系とを少なくとも有する収束イオンビーム加工装置において、前記イオンビームと異なるエネルギー線を試料に照射して試料の加工幅を測定する手段を備えてなることを特徴とする収束イオンビーム加工装置。
IPC (5件)：
H01L 21/3065 ,  B23K 15/00 508 ,  B23K 15/02 ,  G01B 21/02 ,  H01J 37/305
引用特許：
審査官引用 (4件)
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