特許
J-GLOBAL ID：200903080285404150

耐汚染性に優れた選択的分離膜製造方法

発明者：
コー ジャ ヤン

コー ジャ ヤン について

, 
キム ソン ツク

キム ソン ツク について

, 
ユン ソン ロ

ユン ソン ロ について

, 
ホン ソン ピョ

ホン ソン ピョ について


出願人/特許権者：
サエハン インダストリーズ インコーポレーション

サエハン インダストリーズ インコーポレーション について


代理人 (2件)： 小谷 悦司 ,  植木 久一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-187857
公開番号（公開出願番号）：特開2004-025102
出願日： 2002年06月27日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：
【課題】耐汚染性に優れた選択的分離膜の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の耐汚染性に優れたポリアミド逆浸透複合膜製造方法は、多孔性支持体上にポリアミド薄膜を形成した後、更に該ポリアミド薄膜上に親水性コートを行なって親水性のポリアミド逆浸透複合膜を製造する方法において、該親水性コートが、少なくとも2つ以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物をポリアミド複合膜にコートした後、エポキシ化合物を架橋させて非水溶性高分子を形成させるものであることを特徴とする。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
多孔性支持体上にポリアミド薄膜を形成した後、更に該ポリアミド薄膜上に親水性コートを行なって親水性のポリアミド逆浸透複合膜を製造する方法において、該親水性コートが、少なくとも2つ以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物をポリアミド複合膜にコートした後、エポキシ化合物を架橋させて非水溶性高分子を形成させるものであることを特徴とする耐汚染性に優れたポリアミド逆浸透複合膜製造方法。
IPC (11件)：
B01D69/12 ,  B01D61/02 ,  B01D61/14 ,  B01D71/26 ,  B01D71/30 ,  B01D71/42 ,  B01D71/46 ,  B01D71/56 ,  B01D71/64 ,  B01D71/68 ,  C08J9/36
FI (11件)：
B01D69/12 ,  B01D61/02 ,  B01D61/14 ,  B01D71/26 ,  B01D71/30 ,  B01D71/42 ,  B01D71/46 ,  B01D71/56 ,  B01D71/64 ,  B01D71/68 ,  C08J9/36
Fターム (52件)：
4D006GA03 ,  4D006GA04 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MB09 ,  4D006MC22X ,  4D006MC23X ,  4D006MC25X ,  4D006MC29 ,  4D006MC37X ,  4D006MC39X ,  4D006MC50X ,  4D006MC54X ,  4D006MC58X ,  4D006MC59X ,  4D006MC61X ,  4D006MC62X ,  4D006MC85 ,  4D006NA05 ,  4D006NA10 ,  4D006NA44 ,  4D006NA46 ,  4D006NA49 ,  4D006NA54 ,  4D006NA60 ,  4D006NA64 ,  4D006PA01 ,  4D006PB03 ,  4D006PB04 ,  4D006PB12 ,  4D006PB13 ,  4F074AA17 ,  4F074AA24 ,  4F074AA48 ,  4F074AA49 ,  4F074AA71 ,  4F074AA74 ,  4F074AA87 ,  4F074AF01 ,  4F074AF02 ,  4F074CE01 ,  4F074CE02 ,  4F074CE14 ,  4F074CE15 ,  4F074CE43 ,  4F074CE58 ,  4F074CE65 ,  4F074CE98 ,  4F074DA20 ,  4F074DA43
引用特許：
出願人引用 (7件)
全件表示
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM