特許
J-GLOBAL ID：200903080309405730
メッキ方法およびその方法により製造されたメッキ皮膜を備えたメッキ品およびメッキ液
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 仲村 義平
, 堀井 豊
, 野田 久登
, 酒井 將行
, 荒川 伸夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-017801
公開番号（公開出願番号）：特開2009-179827
出願日： 2008年01月29日
公開日（公表日）： 2009年08月13日
要約：
【課題】本発明は界面活性剤を適用することができない金メッキ液などのメッキ液に微細形状体を均一に分散させて、微細形状体が分散された金メッキ皮膜を提供することを目的とする。【解決手段】本発明のメッキ方法は、微細形状体を含有するメッキ液を用いた微細形状体が分散したメッキ方法であって、少なくとも、微細形状体の表面にカルボキシル基を形成する表面処理工程と、表面にカルボキシル基を形成した微細形状体をメッキ液に分散するメッキ液調製工程と、微細形状体を分散させたメッキ液を用いて微細形状体が分散したメッキ皮膜を形成するメッキ工程とを備える。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
微細形状体を含有するメッキ液を用いた微細形状体が分散したメッキ方法であって、
前記微細形状体の表面にカルボキシル基を形成する表面処理工程と、
前記表面にカルボキシル基を形成した微細形状体をメッキ液に分散するメッキ液調製工程と、
前記微細形状体を分散させたメッキ液を用いて微細形状体が分散したメッキ皮膜を形成するメッキ工程と
を含むメッキ方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
C25D15/02 L
, C25D15/02 F
, C25D15/02 G
, C25D7/00 H
4K024AA11
, 4K024AB08
, 4K024AB12
, 4K024AB15
, 4K024BB10
, 4K024CA06
, 4K024FA05
, 4K024GA03
, 5G023CA26
, 5G023CA27
, 5G023CA29
出願人引用 (2件)
審査官引用 (6件)
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